Баня масляная IKA HBR 4 control (температура окр. среды...200 °C, 4 л).
Баня IKA HBR 4 control предназначена для прямого нагревания материалов, помещённых в ёмкость бани. Подходит также для непрямого нагревания заполненных веществами стеклянных сосудов, которые погружаются непосредственно в теплопередающую жидкость. Особенно удобно нагревание вращающихся стеклянных сосудов, например в ротационном испарителе IKA.
Баня применяется в учебных, промышленных, химических лабораториях.
Удобное аналоговое управление с выводом данных на ЖК-дисплей. Баня позволяет применять функции нагрева и перемешивания. С помощью кнопки можно выбрать необходимую температуру нагрева бани и среды. Температура нагревательной бани поддерживается постоянной с помощью контура регулирования устройства. Температура нагревательного элемента ограничена значением максимально допустимой температуры. Температура среды регулируется с помощью регулятора нечёткой логики. При этом температура среды максимально быстро и без отклонений доводится до установленной температуры. Регулятор нечёткой логики автоматически подстраивается к различной теплоёмкости теплоносителей. Это обеспечивает оптимальный температурный режим без температурного дрейфа и пульсации. Входящий в комплект поставки внешний датчик температуры может использоваться в качестве датчика заданного значения для регулирования температуры. С помощью поворотного регулятора можно настроить требуемую частоту вращения. Настроенное значение можно считать на цифровом дисплее.
В качестве среды передачи тепла используют преимущественно воду (температура нагрева до 80 °C) или силиконовые масла с низкой вязкостью (50 мПас) и температурой воспламенения выше 260 °C. Для водяной бани рекомендуется применять деминерализованную воду. При использовании в качестве рабочей среды масла необходимо поддерживать минимальный заправочный объём, составляющий один литр.
